【神奈川】半導体製造装置(電子ビームマスク描画装置)の次世代装置開発担当
【業務内容】 電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。 次世代装置の開発ポジションとして、装置の運用評価、描画結果に対して精度向上のためのビッグデータ解析、補正機能の検討や特許提案、製品化に至る顧客対応まで幅広く活躍いただきます。 ■具体的には ・次世代描画装置のシステム・要素開発 装置の知識を習得しながら運用評価を行い、描画精度やスループットがシステム設計で定めた仕様通りかデータ解析を行います。解析結果を他部署と共有し、原因調査と対策検討を早期に行って補正機能の検討や実装指示、および特許提案やパテントクリアランス対応もお任せいたします。 他部署と協業しての海外顧客への装置リリースに従事する業務となります。 また、中長期的な次々世代描画装置システムに必要なキーパーツの要素開発も平行して行います。次世代では実装できなくとも次々世代に間に合うよう先行してキーパーツの要素検討・設計、プロトタイプのPOC機(実証実験機)の立上げや評価を行う業務となります。 【充実の研修・育成制度】 OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。 各種研修や部門の中で勉強会も開催。 半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。 1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。 【求人概要】 電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。 半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、独自技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。こうした顧客ニーズに対応する為の、組織体制強化のための増員募集です。 ※ご応募について※ 少しでもご興味がございましたらご応募ください。 「簡易応募（氏名、メールアドレス、携帯番号のみ）」でお気軽にご応募いただけます。 【職場の魅力】 電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。また、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。次世代装置としては、生産性、精度、メンテナンス性、などあらゆる面での性能向上が求められます。その為、難易度の高い課題にチャレンジする機会が多くあります。周辺には、経験豊富なベテラン開発者も多くおり、アドバイス適切なアドバイスを受けることが可能で、自らの開発、研究者者としての成長が期待できる職場です。