【東京】マルチ電子ビームマスク描画装置用プラットフォームの技術開発
職務内容 【職務概要】 マルチ電子ビームマスク描画装置用プラットフォームの開発および技術フォロー業務に従事。 半導体デバイスの微細化・高性能化に伴い、装置に求められる精度や処理性能は日々高度化しており、それらに対応するための新規開発・性能改善・技術フォローを担当。 最先端半導体の製造および、安定供給を支えることをミッションとして、新製品開発から顧客サポートまで幅広く携わる。 【職務詳細】 ・新製品の仕様検討、性能評価 ・既存機アップグレードの仕様検討、性能評価 ・顧客課題の解決サポート(現地出張対応含む) ・文書作成（マニュアル、仕様書、技術文書など） ＜変更の範囲＞将来的に会社の定める全ての業務に配置転換の可能性あり 部門ミッション/ビジョン 【ミッション】 私たちのミッションは、マルチ電子ビームマスク描画装置用プラットフォームの開発を通じて、日々微細化する半導体デバイスの製造および安定供給を可能にすることです。マルチ電子ビームマスク描画装置は、半導体製造装置の一つで、最先端の半導体デバイス製造に用いられているEUVスキャナー用フォトマスクの製造において欠かすことのできない装置で、プラットフォームにも高い位置決め精度、24時間365日の安定稼働およびフォトマスクに対する最高レベルの清浄度が求められます。 【ビジョン】 私たちのビジョンは、競合他社とのし烈な開発競争に勝つために、スピード感のある装置開発および製造、スムーズな納入、および納入後の安定稼働を実現し続けることです。 ポジション特徴 ①半導体デバイス製造への貢献 マルチ電子ビームマスク描画装置は最先端の半導体デバイス製造に欠かすことのできないツールで、大手半導体製造工場には間違いなく導入されています。装置一台が半導体デバイスの製造に寄与する貢献度は計り知れないものがあり、そのスケールの大きさから他の装置では味わえないような使命感・達成感を感じることができます。 ②世界最高レベルの技術 半導体デバイスは常に微細化が進んでおり、その原版となるフォトマスクに要求されるパターニング精度はサブナノメートルまで到達しています。目に見えない、測定すら難しい世界での精度向上はチャレンジングであるものの、技術者にとっては非常にやりがいのある仕事です。 ③海外経験 多くの大手半導体工場の拠点は海外（米国、韓国、台湾など）ですので、海外出張や駐在の機会があります。お客様や海外の協業メーカーと英語でコミュニケーションをとる必要があり、世界で活躍する力を養うことができます。 キャリアイメージ ※業務習熟度合いによってお任せする業務が異なりますので一例としてご覧ください。 【1年目】 ・電子ビーム描画装置の概要教育 ・生産現場研修および客先納入研修 ・先輩指導のもと、製品評価のサポート 【2年目】 ・製品評価のサポート ・顧客課題の解決サポート ・アッタッチメントの仕様検討 【3年目以降】 ・装置全体を考慮した製品仕様の検討 ・新製品の評価メイン担当 以降については、技術面を極めるスペシャリストとしてのキャリアや、開発リーダーとしてのキャリア、などいくつかの方向性があります。適正やご希望を考慮して決めていけたらと考えています。